จีนผลิตเครื่อง DUV เอง เดินหน้าลดพึ่งเทคโนโลยีเครื่องเขียนวงจรตะวันตก

จีนเริ่มเดินหน้าผลิตเครื่องลิโทกราฟีแบบ Immersion Deep Ultraviolet (DUV) ที่พัฒนาโดยบริษัทภายในประเทศในระดับการผลิตเชิงพาณิชย์แล้ว นับเป็นความก้าวหน้าครั้งสำคัญของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์จีน ท่ามกลางความพยายามลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างประเทศ และรับมือมาตรการควบคุมการส่งออกของชาติตะวันตก

 

แหล่งข่าวที่เกี่ยวข้องเปิดเผยว่า บริษัท Shanghai Aishengna Electronic Technology Group ซึ่งเป็นรัฐวิสาหกิจของจีน เป็นผู้รับผิดชอบโครงการผลิตเครื่อง DUV ดังกล่าว โดยได้รวบรวมบุคลากรจากบริษัทสตาร์ทอัพชั้นนำด้านเทคโนโลยีลิโทกราฟีของจีนเข้ามาร่วมพัฒนา

 

ความเคลื่อนไหวดังกล่าวถือเป็นอีกหนึ่งความสำเร็จของยุทธศาสตร์ "การพึ่งพาตนเองด้านเซมิคอนดักเตอร์" ซึ่งเป็นนโยบายสำคัญของประธานาธิบดีสี จิ้นผิง อย่างไรก็ตาม ผู้เชี่ยวชาญมองว่ายังไม่สามารถสร้างแรงกดดันทางธุรกิจต่อ ASML ผู้ผลิตเครื่องลิโทกราฟีรายใหญ่ของเนเธอร์แลนด์ได้ในระยะสั้น

 

ก่อนหน้านี้ สำนักข่าวเทคโนโลยี The Information รายงานว่า บริษัทที่ได้รับการสนับสนุนจากรัฐบาลจีนในนครเซี่ยงไฮ้ได้เริ่มผลิตเครื่อง DUV แล้ว โดยตั้งเป้าผลิตประมาณ 5 เครื่องในปีนี้ และเพิ่มเป็นราว 20 เครื่องในปี 2570 ขณะที่ Reuters ระบุเป็นครั้งแรกว่าบริษัทดังกล่าวคือ Shanghai Aishengna Electronic Technology Group

 

แหล่งข่าวระบุว่า เครื่อง DUV ของจีนยังต้องผ่านการทดสอบเพิ่มเติม และยังมีประสิทธิภาพห่างจากเครื่องของ ASML ทั้งด้านความแม่นยำ ความเสถียร และประสิทธิภาพการผลิตในระดับอุตสาหกรรม

 

อย่างไรก็ตาม หากสามารถใช้งานได้จริง จะช่วยให้ผู้ผลิตชิปจีนมีทางเลือกใหม่ในการจัดหาเครื่องจักร โดยเฉพาะหากรัฐบาลสหรัฐฯ และพันธมิตรเพิ่มมาตรการจำกัดการส่งออกหรือการให้บริการเครื่องจักรจากต่างประเทศในอนาคต

 

รายงานระบุว่า เครื่อง DUV ที่ผลิตในจีนชุดแรกมีกำหนดส่งมอบภายในปีนี้ให้กับผู้ผลิตชิปชั้นนำของประเทศ ได้แก่ Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor และผู้ผลิตหน่วยความจำ ChangXin Memory Technologies (CXMT)

 

เครื่องลิโทกราฟีแบบ Immersion DUV ใช้น้ำเป็นตัวกลางระหว่างเลนส์ฉายภาพกับแผ่นซิลิคอนเวเฟอร์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายวงจรที่มีขนาดเล็กกว่าเครื่อง DUV แบบแห้ง รองรับการผลิตชิปหลากหลายประเภท และสามารถผลิตชิปประสิทธิภาพสูงขึ้นได้ด้วยเทคนิค Multiple Patterning ซึ่งอาศัยการฉายแสงซ้ำหลายครั้งในชั้นเดียวกัน

 

ด้าน ASML รวมถึง SMIC, Hua Hong และ CXMT ยังไม่ได้แสดงความเห็นต่อรายงานดังกล่าว

หลังข่าวการพัฒนาเครื่อง DUV ของจีนเผยแพร่ออกมา หุ้น ASML ร่วงลงกว่า 8% ในการซื้อขายวันจันทร์ ก่อนปรับตัวลดลงอีก 1.6% ในการซื้อขายวันอังคาร แม้ภาพรวมจะเป็นไปในทิศทางเดียวกับหุ้นกลุ่มเซมิคอนดักเตอร์ในยุโรป

 

สำหรับ Shanghai Aishengna Electronic Technology Group ก่อตั้งขึ้นในเดือนสิงหาคม 2566 ด้วยทุนจดทะเบียน 7,000 ล้านหยวน โดยมีผู้ถือหุ้นเป็นรัฐวิสาหกิจของนครเซี่ยงไฮ้เพียง 2 ราย ได้แก่ Shanghai Electric Holding และบริษัทย่อยของ Shanghai International Trust

 

บริษัทแห่งนี้แทบไม่มีการเปิดเผยข้อมูลต่อสาธารณะ ไม่มีเว็บไซต์อย่างเป็นทางการ แต่แหล่งข่าวระบุว่าได้รวมทีมวิจัยจาก Yuliangsheng ซึ่งเคยทดสอบต้นแบบเครื่อง DUV เมื่อปีที่ผ่านมา และ Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)ซึ่งเป็นผู้พัฒนาเครื่องลิโทกราฟีรายสำคัญของจีน

 

ทั้ง SMEE และ Yuliangsheng ซึ่งมีความเชื่อมโยงกับผู้ผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ SiCarrier ที่ได้รับการสนับสนุนจาก Huawei ต่างมีบทบาทสำคัญในยุทธศาสตร์พึ่งพาตนเองด้านชิปของจีน

 

ปัจจุบันจีนยังไม่สามารถซื้อเครื่องลิโทกราฟี Extreme Ultraviolet (EUV) ซึ่งเป็นเทคโนโลยีขั้นสูงที่สุดของ ASML ได้ หลังสหรัฐฯ และรัฐบาลเนเธอร์แลนด์ใช้มาตรการควบคุมการส่งออกเพื่อจำกัดการเข้าถึงเทคโนโลยีดังกล่าว รวมถึงจำกัดการส่งออกเครื่อง DUV รุ่นล้ำหน้าบางประเภท

 

แม้จีนจะเร่งพัฒนาเทคโนโลยีภายในประเทศ แต่จีนยังเป็นตลาดสำคัญของ ASML โดยคิดเป็นประมาณ 16% ของยอดขายสุทธิของบริษัทในช่วงครึ่งแรกของปี เนื่องจากผู้ผลิตชิปจีนยังคงสั่งซื้อเครื่อง DUV จาก ASML อย่างต่อเนื่อง

 

ก่อนหน้านี้ Reuters เคยรายงานว่า จีนสามารถสร้างต้นแบบเครื่อง EUV ได้สำเร็จแล้ว แต่ยังต้องใช้เวลาอีกหลายปีกว่าจะสามารถผลิตในระดับอุตสาหกรรมได้

 

นักวิเคราะห์ของ JP Morgan Chase ประเมินว่า ความคืบหน้าของจีนยังไม่น่าจะส่งผลกระทบต่อผลประกอบการของ ASML ในระยะกลาง เนื่องจากการผลิตเครื่อง DUV ได้เพียงไม่กี่เครื่อง ยังแตกต่างจากการผลิตเครื่องจักรที่รองรับการผลิตชิปจำนวนมากในโรงงาน ซึ่งต้องอาศัยมาตรฐานด้านอัตราผลผลิต ความแม่นยำ ความเร็ว และความน่าเชื่อถือในระดับสูงอย่างต่อเนื่อง.